一种用于离子迁移谱进样器的进样薄片
一种填补致密膜缺陷的方法
专利号 CN201510346454.9 申请日 2015/6/19
公开(公告)号 CN106310956B 授权公告日 2018/12/25
主分类号 B01D67/00 分类号 B01D67/00
申请号 CN201510346454.9 专利类型 发明
发明(设计)人 郑磊; 李慧; 徐恒泳
申请(专利权)人 中国科学院大连化学物理研究所
摘要:本发明采用高温胶与一定粒径分布的陶瓷粒子混合制备复合修饰液,对致密膜上存在的缺陷实现全范围修饰(几个纳米‑几百微米)。其中陶瓷粒子用来修饰致密膜上的大缺陷(如大于5nm),高温胶用来修饰致密膜上的小缺陷(如小于5nm);另外,高温胶的使用能显著提高修饰液的流平性能,并且起到对陶瓷粒子粘合增韧的目的,从而降低后处理温度。采用本发明制得的复合修饰液对有缺陷的致密膜表面进行涂覆修饰,陶瓷粒子及高温胶只填充缺陷部分,并不吸附在致密膜表面。该方法能实现接近100%的缺陷填充率,具有工艺简单、重复性好的优点,适合规模化的致密膜缺陷填补。

 
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