一种用于离子迁移谱进样器的进样薄片
一种全自动单通道沉淀法连续生产纳米粉体的装置
专利号 CN201721694775.9 申请日 2017/12/8
公开(公告)号 CN207856888U 授权公告日 2018/9/14
主分类号 B01J19/00 分类号 B01J19/00; B01D9/02; B01J37/03; B01J23/80
申请号 CN201721694775.9 专利类型 实用新型
发明(设计)人 方传艳; 林定标; 陈崇文; 孙剑; 徐恒泳; 侯守福
申请(专利权)人 中国科学院大连化学物理研究所
摘要:本实用新型公开了一种全自动单通道沉淀法连续生产纳米粉体的装置, 采用至少二种液体为原料液,二种以上液体接触后可发生沉淀反应;二种以上原料液分别置于原料液储罐中,二个以上原料液储罐依次经过溶液气动调节阀、液体流量计、气体分布器与单通道混配器原料入口端相连,气体分布器依次经过气体流量计、气体气动调节阀与的气源相连,单通道混配器出口端经导料管与老化搅拌釜相连,在稳定器和老化搅拌釜之间的导料管上设置有PH计;程控器通过导线分别与气动调节阀、流量计、PH计进行信号连接;本实用新型生产的颗粒粒径可以得到调控,颗粒的分散性好、分布窄、形貌差异小,沉淀颗粒性能好,沉淀反应可自动化连续进行,降低成本,可用于工业上的生产。

 
网站访问统计
 

   Copyright ©  中国科学院大连化学物理研究所 国家洁净能源知识产权运营中心 版权所有 All Rights Reserved.

地址:辽宁省大连市沙河口区中山路457号  邮政编码:116023  电话:+86-411-84379598  邮件:NetCenter@dicp.ac.cn