一种用于离子迁移谱进样器的进样薄片
一种立方骨架多孔银及其制备方法
专利号 CN201510941199.2 申请日 2015/12/16
公开(公告)号 CN106881087B 授权公告日 2019/10/25
主分类号 B01J23/66 分类号 B01J23/66; B82Y40/00
申请号 CN201510941199.2 专利类型 发明
发明(设计)人 孙公权; 袁丽只; 姜鲁华
申请(专利权)人 中国科学院大连化学物理研究所
摘要:一种立方骨架多孔银微观上为立方体结构,其边长为0.5~1.5μm;所述立方结构的边由多孔银构成;所述多孔银的孔径为20~100nm。所述立方骨架多孔银的制备方法,为一种先用模板法制备立方骨架卤化银,之后将模板去除,最后通过对立方骨架卤化银进行电化学处理,从而得到立方骨架多孔银的方法。与现有技术相比,本发明所述立方骨架多孔银具有多级孔结构,将其用作氧还原催化剂时,立方骨架的中心孔有利于活性物质的在其内的传输,骨架上的孔有利于活性表面积的提升,从而有利于氧还原催化反应。所述立方骨架多孔银的制备方法具有绿色环保、简便、易于实施、生产成本低;以及制备过程中多孔金属的孔径及孔隙率分布可控等优点。

 
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