一种用于离子迁移谱进样器的进样薄片
一种铣磨用真空吸附调节台
专利号 CN201610379395.X 申请日 2016/6/1
公开(公告)号 CN107443200B 授权公告日 2019/6/25
主分类号 B24B13/005 分类号 B24B13/005
申请号 CN201610379395.X 专利类型 发明
发明(设计)人 贾勇; 李刚; 孙龙; 金玉奇
申请(专利权)人 中国科学院大连化学物理研究所
摘要:本发明涉及一种新型的铣磨用可真空吸附的调节台。从提高铣磨过程中工件定位精度的角度出发,设计了一种真空吸附的调节台,在保证真空吸附力的前提下,实现了对待铣磨元件的角度微调,并能够确保不同口径元件的径向精确定位。该调节台可以方便的在铣磨机上工作,替换掉通用的真空吸附夹具;为工件的铣磨初始位置增加一个可调可控的角度调整自由度,补偿真空吸附过程中(尤其是O型密封圈)的轴向不均匀变形,提高铣磨的定位精度,并进一步保证铣磨精度。该发明能够实现对光学元件的高精度重复定位,有利于探索铣磨工艺参数对铣磨加工过程的影响规律,在平行度、同心度、边厚差等指标有特殊要求的光学元件的铣磨应用中有着巨大优势。

 
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