一种用于离子迁移谱进样器的进样薄片
一种氧化铝纳米层修饰硅胶色谱填料的制备方法
专利号 CN201510671006.6 申请日 2015/10/13
公开(公告)号 CN106563426B 授权公告日 2019/1/8
主分类号 B01J20/286 分类号 B01J20/286; B01J20/30
申请号 CN201510671006.6 专利类型 发明
发明(设计)人 关亚风; 宋志花; 吴大朋
申请(专利权)人 中国科学院大连化学物理研究所
摘要:本发明公开了一种液相色谱填料的制备方法,具体地涉及在多孔硅胶内、外表面形成氧化铝纳米层修饰的nanoAl2O3/mesoSiO2‑n液相色谱填料的方法。本发明的技术方案是强酸活化的多孔硅胶微球在酸性缓冲溶液中吸附Al3+离子,并且通过强酸活化多孔硅胶、低Al3+离子浓度、多次重复沉积制备均匀、厚度可控、完全覆盖的氧化铝纳米涂层,然后通过高温处理,制得具备较强机械强度的nanoAl2O3/mesoSiO2‑n液相色谱填料。该填料以酸性水溶液为流动相可以对常见的无机阴离子进行有效分离。

 
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