一种用于离子迁移谱进样器的进样薄片
一种三氯氢硅还原生产多晶硅循环氢气提纯处理方法
专利号 CN201110200460.5 申请日 2011/7/18
公开(公告)号 CN102328906B 授权公告日 2014/2/12
主分类号 C01B3/56 分类号 C01B3/56
申请号 CN201110200460.5 专利类型 发明
发明(设计)人 徐恒泳; 唐春华; 孙剑; 董恩宁; 侯守福
申请(专利权)人 中国科学院大连化学物理研究所
摘要:一种三氯氢硅还原生产多晶硅循环氢气提纯处理方法。采用两组串联的金属钯复合膜氢气纯化器,对三氯氢硅还原循环氢气进行提纯处理,其中第一组金属钯复合膜氢气纯化器相对较大,提纯处理的超纯氢气(H2纯度>99.9999%)返回还原炉,用于三氯氢硅还原的原料气,而第二组氢气纯化器相对较小,提纯处理的高纯氢气(H2纯度-99.999%)去冷氢化工段作为原料气。该方法提纯处理循环氢气的回收率可以达到99%。当循环氢气中氯化氢含量较高时,需要采取必要的脱氯措施使得HCl含量降低到0.5ppm以下。利用该方法提纯的氢气生产多晶硅,可以明显提高多晶硅产品的纯度和质量,具有明显的节能减排效应。

 
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