一种用于离子迁移谱进样器的进样薄片
一种化学镀钯或其合金膜进行化学镀前的活化方法
专利号 CN201310195952.9 申请日 2013/5/23
公开(公告)号 CN104178752B 授权公告日 2017/9/26
主分类号 C23C18/30 分类号 C23C18/30; C23C18/42
申请号 CN201310195952.9 专利类型 发明
发明(设计)人 徐恒泳; 唐春华; 刘宴; 邵炜
申请(专利权)人 中国科学院大连化学物理研究所
摘要:本发明提供了一种在多孔载体表面化学镀钯及其合金膜的化学活化方法,即对无催化活性的载体进行活化处理,然后经化学镀进行金属沉积的方法,主要解决传统化学镀活化工艺中存在的锡离子干扰,操作复杂等问题。采用了由表面活性剂分散的PdCl2酸性溶液作为活化液,采用无毒无害环境友好的抗坏血酸的酸性溶液作为还原剂,使活性金属组分被还原并沉积在载体表面形成高分散的金属微粒和金属粒子生长的晶核。然后将活化的载体直接置于化学镀液中,进行化学镀金属膜。该方法避免了锡的引入、操作简单、环境友好,有效的实现了钯膜的均匀生长,制得的金属膜致密性好、附着力强、具有较高透氢选择性和稳定性。

 
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