一种用于离子迁移谱进样器的进样薄片
一种金属钯膜表面制备分子筛膜的方法
专利号 CN201410165933.6 申请日 2014/4/23
公开(公告)号 CN105013339B 授权公告日 2017/9/29
主分类号 B01D71/02 分类号 B01D71/02; B01D69/12; B01D67/00; B01D69/10; B01D53/22; C01B3/50
申请号 CN201410165933.6 专利类型 发明
发明(设计)人 俞佳枫; 徐恒泳; 祁晨琛; 包淳; 张继新
申请(专利权)人 中国科学院大连化学物理研究所
摘要:一种金属钯膜表面制备分子筛膜的方法。通过在以多孔陶瓷为基底的钯膜表面原位合成分子筛膜,制备底膜‑钯膜‑分子筛膜三层结构的复合膜。该复合膜的三层结构之间结合紧密,形成以钯膜为中间层的夹心结构。该结构可抑制钯膜发生形变造成的破裂损坏,提高钯膜在低温条件下抗氢脆性能,延长钯膜的使用寿命。另外,利用分子筛膜对分子的筛分性能,可阻碍杂质气体与钯膜接触,抑制其对钯膜的毒害作用。本发明方法为钯基氢分离膜提供了一种抗氢脆和抗中毒的防护措施,延长钯膜的使用范围和使用寿命,将获得广泛应用。

 
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