一种聚醚酰亚胺与气相二氧化硅混合基质膜、制备及应用-国家洁净能源知识产权运营中心

专利号	CN201210547993.5	申请日	2012/12/17
公开（公告）号	CN103084078B	授权公告日	2016/6/1
主分类号	B01D71/64	分类号	B01D71/64; B01D67/00; B01D69/12; B01D53/22
申请号	CN201210547993.5	专利类型	发明
发明（设计）人	任吉中; 张立秋; 李晖; 赵丹; 冯世超
申请（专利权）人	中国科学院大连化学物理研究所
摘要：一种聚醚酰亚胺与气相二氧化硅混合基质膜、制备及应用，本发明选用含有极性醚氧基团的新型HQDEA-DMMDA聚醚酰亚胺为基质膜材料，选择气相二氧化硅粒子为填料，通过超声方法将二氧化硅均匀分散在基质膜溶液中制备气体分离膜，该混合基质膜具有较好的气体渗透性，并对H2/CH4, H2/N2, CO2/CH4, CO2/H2以及O2/N2等分离体系保持较高的分离性能。