一种耐高温碱性阴离子交换膜及其制备和应用-国家洁净能源知识产权运营中心

专利号	CN201010207020.8	申请日	2010/6/23
公开（公告）号	CN102299283B	授权公告日	2013/10/9
主分类号	H01M2/16	分类号	H01M2/16; H01M8/02; C08F126/06; C08F8/44; C08L39/04; C08L79/08; C08L71/08; C08L81/06; C08J5/22; H01M8/083
申请号	CN201010207020.8	专利类型	发明
发明（设计）人	孙公权; 柳鹤; 金巍; 王素力
申请（专利权）人	中国科学院大连化学物理研究所
摘要：本发明提供一种耐高温碱性阴离子交换膜及其制备和应用，包括聚R基咪唑的合成、季铵化、共混膜铸膜溶液的制备及成膜。将溶解后，R基为C1-C10的链状或环状的单烯烃，在自由基引发剂的作用下发生聚合反应，得到聚R基咪唑，将得到的聚R基咪唑溶解，加入C1-C6的一取代卤代烷烃，使之在3-N上发生季铵化；取上述固体加入水中，升温并磁力搅拌使之溶胀、溶解，取聚苯并咪唑、聚酰亚胺、聚醚醚酮、聚醚砜中的一种或几种，加入极性有机溶剂中，将上述两种溶液在加热条件下共混，形成乳液后平铺于玻璃板上，程序升温制模。本发明所述膜具有易成膜、电导率高、机械柔韧性好、热稳定性和电化学稳定性好的特点。