一种用于离子迁移谱进样器的进样薄片
一种银/金属氧化物多孔材料、其制备方法和应用
专利号 CN201410706344.4 申请日 2014/11/27
公开(公告)号 CN105688909B 授权公告日 2018/1/9
主分类号 B01J23/68 分类号 B01J23/68; B01J23/89; B01J23/66; B01J35/10; B01J37/34; H01M4/90
申请号 CN201410706344.4 专利类型 发明
发明(设计)人 孙公权; 袁丽只; 姜鲁华
申请(专利权)人 中国科学院大连化学物理研究所
摘要:本发明涉及一种银/金属氧化物多孔材料、其制备方法和应用,所述的方法特指在银基底表面于含一定前体盐的电解液中通过电化学手段沉积氧化物的方法,该方法具有简便、环保、易于实施等优点。该材料应用于氧还原反应时催化活性高。与现有技术相比,本发明所述在分级多孔银上电沉积金属氧化物的方法具有绿色环保、简便、易于实施、生产成本低;以及该材料应用于氧还原反应催化活性高等优点。

 
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