一种用于离子迁移谱进样器的进样薄片
一种薄层憎水催化层的制备方法
专利号 CN200810228028.5 申请日 2008/10/10
公开(公告)号 CN101728542B 授权公告日 2012/6/20
主分类号 H01M4/88 分类号 H01M4/88
申请号 CN200810228028.5 专利类型 发明
发明(设计)人 衣宝廉; 俞红梅; 宋微; 邵志刚
申请(专利权)人 中国科学院大连化学物理研究所
摘要:本发明是关于一种薄层憎水催化层的制备方法。将催化剂与憎水剂调制成墨水,喷涂到表面光滑平整的耐热介质上,以进行高温焙烧实现憎水化。焙烧后,在表面喷涂质子导体聚合物实现电极立体化,然后转压到质子膜上,形成覆在膜上的薄层憎水催化层。此法制备的覆膜催化层,能够形成良好的疏水孔道,与亲水的覆膜催化层相比,有效避免了燃料电池高电密区的水淹现象,性能有较大的提高。

 
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