一种用于离子迁移谱进样器的进样薄片
氮氧化硅色谱固定相材料及其制备和应用
专利号 CN201010521325.6 申请日 2010/10/27
公开(公告)号 CN102451667B 授权公告日 2014/1/1
主分类号 B01J20/283 分类号 B01J20/283; B01J20/30; B01D15/08
申请号 CN201010521325.6 专利类型 发明
发明(设计)人 梁鑫淼; 万慧慧; 薛兴亚
申请(专利权)人 中国科学院大连化学物理研究所
摘要:本发明提供一种氮氧化硅色谱固定相材料及其制备方法,以氧化硅材料为原料,通过在高温下氨气与氧化硅材料的硅羟基之间的氮化反应制得表面含有硅氨基和亚氨基团的氮氧化硅色谱固定相材料。通过控制氨气的流速,氮化温度和氮化时间,可以控制制备的氮氧化硅材料的氮含量。本发明制备的氮氧化硅材料不但能很好的保持氧化硅原料的形貌,而且可以保持氧化硅材料的孔道结构和比表面积。本发明制备的氮氧化硅材料化学稳定性好,在pH:1-13的流动相中能够稳定存在而不发生流失,作为色谱固定相材料和固相萃取材料具有广泛的应用前景。本发明操作简单,生产成本低,适于工业化生产。

 
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