一种用于离子迁移谱进样器的进样薄片
一种中孔氧化铝的制备方法
专利号 CN200510003776.X 申请日 2005/1/11
公开(公告)号 CN1317189C 授权公告日 2007/5/23
主分类号 C01F7/02 分类号 C01F7/02
申请号 CN200510003776.X 专利类型 发明
发明(设计)人 刘茜; 张涛; 王晓东; 程瑞华; 李宁; 徐长海
申请(专利权)人 中国科学院大连化学物理研究所
摘要:本发明涉及中孔氧化铝的制备方法,以铝溶胶为前体,加入表面活性剂、高分子聚合物或羟基酸作结构导向剂,加入碱调节体系pH值在8~11,80~100℃下水热合成,经分离、水洗、干燥后于500℃焙烧而成;或直接将铝溶胶与结构导向剂的混合物于30~100℃干燥,再在500℃焙烧得到中孔氧化铝。实验表明,产物具有相互连通的蠕虫状孔道结构,孔壁骨架由晶相γ-Al2O3组成,调变合成条件可以实现对孔结构参数的精细调节。本发明的氧化铝具有高比表面积、大孔容、集中可控的孔径分布,且原料成本低廉、工艺过程简单、产物结构稳定等优点,可促进中孔氧化铝的大规模工业化生产,同时推动其在催化、吸附、分离等领域的研究和应用。

 
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