一种用于离子迁移谱进样器的进样薄片
一种有序中孔氧化铝的制备方法
专利号 CN200510046240.6 申请日 2005/4/13
公开(公告)号 CN100390062C 授权公告日 2008/5/28
主分类号 C01F7/02 分类号 C01F7/02; C01F7/30; B01J21/04; C01F7/00; B01J21/00
申请号 CN200510046240.6 专利类型 发明
发明(设计)人 刘茜; 张涛; 王晓东; 方亮; 涂彩华; 金小平
申请(专利权)人 中国科学院大连化学物理研究所
摘要:本发明涉及中孔氧化铝,具体说是一种有序中孔氧化铝的制备方法,以有序中孔碳为模板,将铝前体引入模板的孔道中,采用热处理法先使铝前体转晶生成氧化铝骨架,再氧化除去碳模板,得到孔道排列规整有序的中孔氧化铝。本发明获得的产物孔径分布集中均一、孔道排列规整有序、孔壁骨架由晶相γ-Al2O3组成,且可通过选择不同孔结构的模板可以实现对产物孔结构参数的精细调节;由本发明得到的有序中孔氧化铝在催化、吸附、分离、光学材料等领域有着广泛的应用前景。

 
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