一种用于离子迁移谱进样器的进样薄片
一种抛光机用调速调压压头
专利号 CN201410754055.1 申请日 2014/12/10
公开(公告)号 CN105729269B 授权公告日 2017/10/20
主分类号 B24B13/00 分类号 B24B13/00
申请号 CN201410754055.1 专利类型 发明
发明(设计)人 贾勇; 刘顺福; 张杰; 李刚; 孙龙
申请(专利权)人 中国科学院大连化学物理研究所
摘要:本发明涉及一种新型的抛光机用调压调速压头。从抛光过程的自转转速和抛光压力两方面考量,设计了一种调压调速压头,实现了抛光过程的压力和转速可调,并对机床振动有一定的缓冲效果。该压头可以方便的利用一个转接头安装在现有抛光机上工作,将不可控的工件自转转化为一个可以自由调节的工艺参数,并能实现对抛光压力的自由调节。该发明有利于摸索光学抛光过程的规律参数,有助于开展确定性抛光工作;并能有效改善抛光去除率函数曲线,对抛光的精度和效率有显著贡献。

 
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