一种氟喹诺酮类替代模板分子印迹聚合物及其应用-国家洁净能源知识产权运营中心

专利号	CN201310334293.2	申请日	2013/8/2
公开（公告）号	CN104341552B	授权公告日	2016/7/6
主分类号	C08F222/14	分类号	C08F222/14; C08F222/20; C08F212/36; C08F226/06; C08F220/06; C08F220/56; C08J9/28; C08J9/26; B01J20/26; B01J20/30; B01D15/08; G01N1/40
申请号	CN201310334293.2	专利类型	发明
发明（设计）人	陈吉平; 孙晓丽; 王金成
申请（专利权）人	中国科学院大连化学物理研究所
摘要：本发明提供一种氟喹诺酮类抗生素药物的替代模板分子印迹聚合物的制备和应用方法。将替代模板分子、交联剂、功能单体和引发剂溶于致孔溶剂中，制备成预聚合溶液，于50-70℃下聚合反应24-48h。聚合反应生成的白色块状聚合物经研磨、筛分、沉降后，得到粒径为45-63μm的聚合物颗粒。得到的聚合物依次使用甲醇/乙酸和甲醇为萃取溶剂进行索氏抽提或超声提取，除去残留的替代模板分子和干扰物质，即得到替代模板分子印迹聚合物。该替代模板分子印迹聚合物对氟喹诺酮类抗生素具有很强的特异选择性和富集能力。该材料在保证印迹效果的同时，解决了模板渗漏的问题，可用于复杂基质中氟喹诺酮类抗生素的分离、富集和纯化。