一种用于离子迁移谱进样器的进样薄片
一种弧形凹陷小孔的PDMS聚合物芯片的制备方法及应用
专利号 CN201210439646.0 申请日 2012/11/6
公开(公告)号 CN102978110B 授权公告日 2014/8/6
主分类号 C12M3/00 分类号 C12M3/00; C12N5/077
申请号 CN201210439646.0 专利类型 发明
发明(设计)人 秦建华; 石杨; 姜雷; 张旭
申请(专利权)人 中国科学院大连化学物理研究所
摘要:一种弧形凹陷小孔的PDMS聚合物芯片的制备方法及应用,该方法的步骤为利用软蚀刻技术制作PDMS通道芯片模板;制作PDMS薄膜,将上述的PDMS通道芯片模板,与PDMS薄膜封接后,与玻璃片封接,底部用金属管连接气体,对整个装置进行表面修饰;将未固化后的PDMS聚合物溶液倒入上述的装置,通入气体,加热固化PDMS聚合物溶液,剥离PDMS芯片即可;表面修饰后的PDMS芯片可以用于细胞的三维培养,该方法无需昂贵的刻蚀设备,具有操作简单、快速,实验成本低廉,不涉及有机试剂,环境友好,可与其它技术集成化的优点。

 
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