一种用于离子迁移谱进样器的进样薄片
一种高热流密度的冷却装置
专利号 CN201621351104.8 申请日 2016/12/10
公开(公告)号 CN206401702U 授权公告日 2017/8/11
主分类号 H01S3/04 分类号 H01S3/04; H01S3/042
申请号 CN201621351104.8 专利类型 实用新型
发明(设计)人 公发全; 李刚; 刘锐; 潘艳伟; 贾勇; 王锋; 邓淞文; 孙天祥; 金玉奇
申请(专利权)人 中国科学院大连化学物理研究所
摘要:本实用新型公开了一种高热流密度的冷却装置,包括:圆形碟片状增益晶体;高热导率薄膜;带孔的射流喷嘴;带卡口的筒状外壁;焊料自吸收孔五部分组成。本实用新型利用带卡口的筒状外壁将圆形碟片状增益晶体夹持后,将晶体焊接于夹持结构上;采用原子沉积的方式在晶体后表面制备高热导率薄膜。利用射流喷嘴向热导率薄膜喷射冷却水,实现晶体高效换热,可大大提升碟片晶体的换热能力。

 
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